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ED-DC-2405-1-A机台

设备应用:德国米铱双光谱共焦、测基础晶圆片-厚度

测试范围:TTV、PV、LTV(局部厚度变化)、弯曲度(BOW)、翘曲度(WARP)、直径

使用面积:2mm*2mm(可设≥0.5mm*0.5mm)

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设备外观
德国米铱双光谱共焦、测基础晶圆片-厚度
机台尺寸
德国米铱双光谱共焦、测基础晶圆片-厚度
机台基本组装規格
最大行程 X450*Y450mm
工作台面 400mm*400mm
远动速度 ≤25M/min
定位精度 ±0.01mm
重复定位精度 ±0.01mm
远动控制系统 EDAC
外型尺寸 1000mm*1000mm*2000mm
电力需求 单相220V/50Hz
光谱共焦
德国米铱双光谱共焦、测基础晶圆片-厚度
米铱光谱共焦参数
检测范围 工作距离 解析度 重复性 光点
1mm 10mm 8mm <±0.5μm 8μm
机台实际运行精度
可测尺寸 可测厚度 静态精度 动态精度 解析度 可测距离 扫描速度
≤12寸 ≤5mm ≤0.05u ≤0.7μ 8nm ≤8μ 350mm/s
扫描结果
米铱双光谱共焦2405-1扫描1mm瑰规运行精度
检测实景
双光谱共焦上下对称位置采数据
检测数据
德国米铱双光谱共焦、测基础晶圆片-厚度
检测结果
ED-DC-2405-1-A机台实测后
最大值:695.565μm 最小值:680.639μm TTV:14.927μm
运行重复精度≤0.7μm
指标 公差
直径 150mm ±2mm
TTV厚度 0.7mm ±2μm
LTV (局部厚度变化) 2mm*2mm(由≥80点組成) ±2μm
BOW 弯曲度 ±0.01mm ≤25μm
WARP 翘曲度 ±0.01mm ≤40μm
Total usable area (可使用面积) 2mm*2mm ≥98%
CT ≤60s 行距2mm 计75条profile
间距50μ(扫描速度)取一厚度值
机台整体远行精度适合检测上列表格指标